你知道如何控制硬質(zhì)氧化時(shí)間嗎?
陽極氧化時(shí)間太長、易造成疏松易脫落、膜層粗糙。
陽極氧化時(shí)間太短、則膜層薄而平滑。
由此可見陽極氧化時(shí)間過長或過短對(duì)質(zhì)量都是不利的,操作時(shí)要嚴(yán)格控制。
硬質(zhì)陽極氧化所需時(shí)間由兩部分組成具體說明如下。
(1)預(yù)陽極氧化時(shí)間(以表8-3中配方1為例)。當(dāng)制件進(jìn)入硬質(zhì)陽極氧化槽之后當(dāng)即加以0.5A/dm2的電流,并在之后的25min時(shí)間內(nèi)分5~8次將電流密度由0.5A/dm2遞升到2.5A/dm2,這段時(shí)間不能短,否則容易引起以后成膜階段制件發(fā)生短路而引起燒蝕,時(shí)間過長則沒有意義。
(2)陽極氧化成膜時(shí)間。制件經(jīng)25min預(yù)處理之后,電流密度已恒定在2.5~3A/dm2時(shí),膜層生長由此時(shí)正式開始。這一段時(shí)間過長或過短對(duì)質(zhì)量都是不利的(適宜的時(shí)間在不同的工藝規(guī)范中都提明確要求)。
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